萧琳琛主编
978-7-122-07024-1
年份: 2010
查看更多>>ISBN:978-7-122-07024-1
单价:¥ CNY30.00
语种:chi
书名:画法几何与阴影透视
作者:萧琳琛主编
出版社:化学工业出版社
出版日期:2010
从编:高职高专规划教材
文摘:本书系统地讲述投影原理——点、线、面的投影规律及运用投影变换的方法解决基本的度量问题;并运用投影的基本知识讨论立体的图示绘制及识读的方法及介绍轴测投影法的形成与画法;对于建筑阴影与透视的内容,介绍了常规的建筑基本形体、建筑小品等阴影产生的基本原理和基本的作图方法及常规一点透视及二点透视的画法。
分类号:O185.2
财产号:01
索书号:00